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镀铝膜的铝层附着力检测

要检测镀铝膜的铝层附着力，首先确认镀铝面。通常实用的方法用手指轻轻的在薄膜的正反面划一下.膜面一般不会有明显的划痕。铝层面会因为外力的摩擦产生很明显的划痕。

镀铝层附着牢度通常的检测方法是胶带检测法，即将长15－20cm ，宽0.5-1 inch的3M 胶带贴合在镀铝薄膜的镀铝层上并将其压平，然后以均匀的速度将胶带剥离，观察并估计镀铝层被剥离的面积，面积小于10%为一级、小于30%为二级、大于30%为三级。如果是透明包装，在吸引消费者上，个人认为只能是追求一种求异的感觉，虽然可能留下深刻印象，但是未必能比得上现今经过精心设计的展示效果，你想想透明的包装下面看着三个料包和炸成那个样子的面饼，本身面饼的形象已经不太招人喜欢，再在超市里扎堆摆到一起。

胶带检测法只是一种定性的检测方法，只适合于一般的定性比较，如果镀铝层的附着牢度超过胶带的粘结力，则分别不出镀铝层附着牢度的差别。现在常用的定量检测方法是在一定的温度、压力和时间下，用EAA薄膜（厚度20－50um，AA含量一般在9%左右）与镀铝膜的镀铝层进行热封，将热封后的样品裁成15mm宽，在拉力试验机上进行剥离试验，观察并记录剥离力的大小以及镀铝层被剥离的面积。这种铝原子的堆积，其附着力是很低的，无论CPP或OPP都是非极性材料，与具有金属键的铝原子无亲和性。

真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。pet高光膜订做厂家是如今一种新开发出来的高科技环保材料，现在，主要有BOPP镭射镀铝膜、搬运膜、通明高反膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。沿被测样品横向等距离地取8~10个规格为100mm×100mm的试样，用电阻测量仪分别测出方块的电阻值，取其算数平均值，即为该试样的镀层电阻，再计算其电阻值的上、下偏差，便可知道镀铝膜镀铝层的均匀度。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。真空镀铝常见问题及对应的解决方法真空镀铝常见问题及对应的解决方法如下：1、真空镀铝时薄膜出现孔洞原因：①蒸发舟内铝料太满。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。

pe镀铝膜与pet镀铝膜旳区别

PE镀铝膜是聚乙烯薄膜镀铝而成；PET镀铝膜是聚酯薄膜镀铝而成；二者材质不同，PE膜偏软，耐温性差，便宜；当真空度达到一定（4×10－4mba以上）时，将蒸发舟升温至1300℃～1400℃，然后再把纯度为99．9%的铝丝连续送至蒸发舟上。PET膜偏硬，耐温性好，价格要贵一些；在光泽度上，PE膜不如PET膜透明，光亮；由于以上诸多不同，PE镀铝膜和PET镀铝膜用途不一样，PE镀铝膜一般用作内衬、防潮包装材料，PET镀铝膜一般用作外包装材料。

镀铝膜表面镀铝的作用是遮光、防紫外线照射，既延长了内容物的保质期，又提高了薄膜的亮度，从一定程度上代替了铝箔，也具有价廉、美观及较好的阻隔性能，目前主要应用于饼干等干燥、膨化食品包装以及一些医l药、化妆品的外包装上。